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    • 沉淀法白炭黑高剪切速率研磨分散

    • 发布时间:2019/5/20 9:14:54
    • 有效期:长期供应

    新疆时时彩开奖结果记录 www.xvlo.com.cn  

    规  格: CMD2000 包装规格: 木箱
    价  格: 108900 供应地点: 上海

    产品详细说明
    公司介绍

    沉淀法白炭黑高剪切速率研磨分散机,沉淀水合二氧化硅研磨分散机,活性二氧化硅研磨分散机,二氧化硅聚集体超高速研磨分散机,德国二氧化硅纳米分散机

    高效高剪切研磨分散机设计理念:高经密度的定转子,超细研磨分散机的定转子分为两级,一级为胶体磨磨头,采用三级错齿结构,磨头的沟槽的深度角度都符合流体力学的设计。第二级是分散头,IKN分散头有六种不同的规格,从粗到细,越来越密,分散效果佳。

    根据多家白炭黑企业经验可知,对于分散过程来说,转子的转速、剪切时间、转子的精密程度是影响分散效果的关键因素。根据激光粒度测试结果分析,超高速剪切技术对于白炭黑聚集体的颗粒分散作用比传统的机械式打浆法在平均粒径上提高了一个数量级;同时,比一般低速剪切均质机有更显著的优势,由于白炭黑聚集体得到充分的分散,白炭黑成品中的“白点”已经基本消除。

    高剪切速率研磨分散机应用于沉淀法白炭黑

    沉淀法白炭黑又称沉淀水合二氧化硅或活性二氧化硅,是一种经硅酸盐与无机酸沉淀反应所获得的高比表面积、高结构、高活性的补强填充改性材料。但由于它的比表面积具有很大的表面能,导致其ji易团聚形成聚集体,削弱了补强性能。传统的搅拌式打浆法,能耗大、操作周期长、分散效果差,并且成品中仍然有“白点”存在,其“白点”聚集体的平均粒径有30-60微米,严重影响其质量与性能。为quan面提高二氧化硅的分散性,使其平均粒径达到2-5微米,应采用更加高速、高剪切、gao效的设备和分散方法对其进行工艺上的改进和设备的改进。

    沉淀法白炭黑高剪切速率研磨分散机通过皮带传送,可实现2到3倍的加速,同时立式直立的转轴,运转稳定性大大提高,同时转子动平衡性得到提高,间隙也允许缩小而不产生摩擦。因此立式湿法粉碎机有zui好的乳化分散粉碎效果。根据其定转子剪切的原理,还可以实现固体物料在液体介质中的粉碎,超细物料的均匀分散,以及加速大分子物质的溶解。经过特别设计的高剪切胶体磨也可以成为反应发生的场所,比如两种液体物料反应生成固体颗粒,通过分别通入腔体,两种物料接触时被剪切成微滴,均匀混合后反应生成的粒子大小均匀,并且粒径很小。

    用转子-定子装置湿磨物质具有诸多好处:
    · 研磨得到的细颗粒被直接融合到悬浮液中,因而从开始就避免了灰尘的形成。
    · 与干磨系统不同,被研磨的物质保持在系统内,从而大幅减少了损失。因此,湿磨非常适合有机化学品,尤其是优质物质,或者有毒物质的研磨。
    · 相对干磨过程而言,湿磨的产品进料和计量较容易。

    CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

    第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

    CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力,可以处理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

    研磨分散机的特点:

    1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

    2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

    3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

    4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

    设备其它参数:

    设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
    电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
    电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    电机选配件: PTC 热?;?、降噪型
    研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
    研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
    研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
    进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
    研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

    从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:

    1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)

    2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)

    3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)

    4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)

    5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)

    线速度的计算:

    剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

    剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
    g
    -转子 间距 (m)

    由上可知,剪切速率取决于以下因素:

    转子的线速率

    在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
    IKN
    -转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

    速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60

    所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

    CMD2000系列研磨分散机设备选型表

    型号

    流量

    L/H

    转速

    rpm

    线速度

    m/s

    功率

    kw

    /出口连接

    DN

    CMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

    流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

    在线留言

    联系方式

       上海依肯机械设备有限
    联 系 人: 贾清清  (销售经理)
    电  话: 021-33506885-803
    手  机: 13795214885
    传  真: 021-51564113
    地  址: 上海市松江区陈春公路700号
    邮  编: 201612
    公司网址: www.iknchina.com
    //www.xvlo.com.cn/shop/index_3275.html

    该公司其它供应

    上海依肯机械设备有限
    VIP用户
    经营模式:生产型
    联系人:贾清清
    主营产品:乳化机, 胶体磨, 均质机, 混合机, 分散机, 真空乳化机, 高剪切乳化机, 乳化泵, 管线式乳化机, , , , , , ,
    公司所在地:上海上海
    供应信息数量: 270条

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